近日，黎明院高純四氟化碳和六氟化硫研發(fā)與中試項目，通過了國家重大專項項目組的現(xiàn)場測試與評審，這標志著極大規(guī)模集成電路行業(yè)所需的高純度氣體有了新著落。

巴豆酸,碳酸二苯酯,石墨粉,碳酸鈣,二氧化氯消毒劑

“我們承擔的國家科技重大專項‘極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝’中的‘高純四氟化碳和六氟化硫研發(fā)與中試’子項目，通過了國家重大專項項目組的現(xiàn)場測試與評審。相關(guān)產(chǎn)品已提交客戶使用，市場應(yīng)用效果良好。”6月11日，黎明化工研究設(shè)計院有限責任公司首席技術(shù)官牛學坤表示。

經(jīng)過現(xiàn)場測試和專家評審，專家組認為，黎明院生產(chǎn)的高純四氟化碳和六氟化硫產(chǎn)品滿足國家重大專項/課題任務(wù)書研究內(nèi)容和考核指標規(guī)定的技術(shù)要求?！绊椖康尿炇胀瓿?，標志著黎明院開發(fā)的高純度含氟電子氣體四氟化碳和六氟化硫產(chǎn)品，能夠滿足極大規(guī)模集成電路行業(yè)所需的高純度氣體需求，也標志著極大規(guī)模集成電路行業(yè)用高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體實現(xiàn)了國產(chǎn)化?！?國家重大專項項目組專項辦公室責任專家馬振宇教授表示。

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牛學坤介紹說，高純度四氟化碳和六氟化硫電子氣體是極大規(guī)模集成電路行業(yè)必須的清洗、蝕刻氣體。隨著極大規(guī)模集成電路技術(shù)的提升，芯片制程向14納米甚至7納米的邁進，其對電子氣體的純度要求越來越高。為此，黎明院借助國家科技重大專項平臺，突破產(chǎn)物合成、精制提純、雜物分析、潔凈充裝等關(guān)鍵技術(shù)，攻克了高純度四氟化碳和六氟化硫制備過程中微量雜質(zhì)的純化、分析等技術(shù)難題，制備出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫，部分雜質(zhì)含量在0.1ppm以內(nèi)。在研發(fā)過程中，黎明院共申報專利9項，發(fā)表研究論文6篇，編制國標1項、企標2項，并建成了標準化潔凈間。

“項目的研發(fā)成功，實現(xiàn)了含氟氣體由工業(yè)級向高純級、多品種等高性能、高附加值產(chǎn)品的轉(zhuǎn)型升級以及氟化物產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)調(diào)整，助推了黎明院高質(zhì)量發(fā)展?！迸W坤表示。

據(jù)了解，2015年，黎明院高純六氟化硫已實現(xiàn)了1000噸/年生產(chǎn)供貨能力;2018年，電子級四氟化碳產(chǎn)品建成了中試裝置，并規(guī)劃建設(shè)1000噸/年工業(yè)化裝置。

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“高純度四氟化碳和六氟化硫已在國內(nèi)集成電路企業(yè)批量使用，實現(xiàn)了部分進口替代。下一步，黎明院將進一步加快科技創(chuàng)新及產(chǎn)業(yè)化發(fā)展步伐，開發(fā)極大規(guī)模集成電路行業(yè)所必須的其他電子特氣，為國內(nèi)極大規(guī)模集成電路行業(yè)的穩(wěn)定、健康發(fā)展提供堅實的基礎(chǔ)?！?牛學坤說。

來源：中國化工報

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